当今芯片行业大限度坐褥用的齐是光刻工艺。光刻工艺里，最进攻的诞生等于光刻机，何况不同的光刻机和芯片制程是逐个双应的。
就像底下这张图露出的，不同的光刻机使用不同的光源，对应不同的工艺制程。
当今开赴点进的光刻机是EUV光刻机，用的是13.5纳米波长的光，能造出7纳米及更小的芯片。
不外呢，这种机器只须荷兰的ASML公司能作念出来，其他厂家齐作念不了。何况ASML还很听好意思国的话，不把EUV光刻机卖给中国和俄罗斯这些国度。
是以啊，ASML现实上卡住了思要坐褥7纳米以下芯片的通盘晶圆厂的脖子，不论是中国的如故俄罗斯的晶圆厂齐被卡住了。
是以一直以来，许多企业齐在参谋光刻机，尤其是那种EUV光刻机。有些公司则试图绕过EUV光刻机，寻找其他大略达到7纳米以下工艺的手艺。
佳能用的是NIL纳米压印手艺，但是这个手艺有许多问题，比如产量很低，不成大限度坐褥芯片。
至于俄罗斯，他们也说过要用X射线来研发这种光刻机，但现实上他们仅仅思思辛勤。因为用X射线压根作念不到7纳米以下芯片所需的精度。
最近有报说念称，俄罗斯兜兜转转几年后发现X射频不太行，如故得用EUV决策。他们料到打算我方研发EUV光刻机。
不外，当今ASML的EUV决策，俄罗斯笃定是搞不定的。要用激光轰击锡珠来产生极紫外线，这手艺难度太大，俄罗斯也作念不到。毕竟许多供应链齐被ASML绑定了，是以他们只可另寻出息。
俄罗斯料到打算使用11.2纳米的激光光源，比ASML的13.5纳米波口角，表面上精度更高，更先进一些。
那若何产生11.2纳米的光源呢？俄罗斯的圭臬是使用氙基激光光源，他们说这么比ASML的EUV系统更经济。
不外说真话，骄贵这点大家齐会。俄罗斯到底能不成作念到，许多东说念主齐有点怀疑。毕竟当今连90纳米的光刻机齐造不出来，一下子就要跳到极紫外线光刻（EUV），这若何可能呢？
所除外界齐在猜，就算俄罗斯真实有这个料到打算，也得花上十几年时辰参谋，还得砸许多钱进去。关联词看当今的口头，俄罗斯赫然莫得这个实力和才智，是以这很可能仅仅在骄贵。
不外话说归来，要是这个决策真实有可能达成，俄罗斯搞不定，不代表咱们一定搞不定。但是这个决策到底行不行得通，谁心里也没底。